TF1200-PECVD等离子化学气相沉积设备
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更新时间：2019-03-05 08:24:05 信息编号：236350727

￥18888

≥ 1台

价格：
18888.00 元
产地：
江苏
品牌：
诺曼比尔
关键词：
等离子化学气相沉积,化学气相沉积,等离子射线,真空高温处理

马鹤

18015537230

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详情介绍

TF1200-PECVD等离子化学气相沉积设备

产品别名	PECVD炉	面向地区	全国	产地	江苏
品牌	诺曼比尔	主要用途	其它	产品认证	CE
工作电压	220v	功率	3000w

TF1200-PECVD等离子化学气象沉积
设备介绍：本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
开启式真空管式炉技术参数
石英管尺寸 Φ100*L1200mm
加热元件电阻丝
测温元件 N型热电偶
加热区/恒温区 440mm/200mm
工作温度 ≤1100℃
控温模式 PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制
控温精度 ±1℃
电功率 AC220V/50HZ/3KW
质量供气系统
标准量程 50-500ml/min
压力表测量范围 -0.1Mpa～0.15Mpa
极限压力 3MPa
针阀 316不锈钢
电功率 AC220V/50HZ/20W
响应时间气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec
重复精度 ±0.2%
真空系统参数
工作电电压 220V±10% 50~60HZ
功率 400W
极限真空 4X10-1Pa
进/排气口口径 KF25
射频电源
信号频率 13.56 MHz±0.005%
功率输出范围 5W-500W
供电电压单相交流（187V-253V）频率50/60HZ
整机效率 >=70%

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