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晶圆清洗机HW2801

更新时间:2017-04-22 08:39:05 信息编号:114798758
晶圆清洗机HW2801
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  • 生产

  • 清洗机,晶圆清洗机,切割清洗,表面清洗

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详情介绍

晶圆清洗机HW2801

产品别名
清洗机,甩干机,表面清洗
面向地区
用途
生产
沈阳汉为科技有限公司是从事半导体设备及配件耗材的研发、销售、服务的高科技公司,拥有高层次技术团队,具备的产品技术及丰富的行业经验,在全国各地拥有广大的用户群体,为客户定制、合理、实用、的产品解决方案。 客户需求就是工作目标,客户满意就是努力方向,沈阳汉为科技有限公司将不断努力,发展创新,为客户提供提供的设备和完善的服务。将提升国产半导体设备行业的发展,创造世界的半导体设备为目标,不懈努力。   我公司生产的精密划片机HW1601/HW1801,是综合了工业图像、传感技术、精密机械传动,自动化控制、控制软件等技术的精密数控设备。可精密切割硅片、***化镓、铌酸锂、氧化铝、陶瓷、玻璃、石英、蓝宝石、磁钢等硬脆材料,也可用于精密开槽。在二极管、三极管、可控硅等分立器件及IC晶圆片、B超换能头、光伏、NTC、光通讯、光学元件等领域应用广泛。


HW2801 清洗机适用于清洗经切割机切割后的工件。
产品特点:
1. 体积小,采用全不锈钢外壳
2. 交互式人机操作,触摸屏幕结合PLC控制,操作直观
3. 具备故障提示,报警功能
4. 清洗和吹氮压力、流量可调,程序可存取调用
5. 无需清洗液、无需其他耗材,免维护流体喷头
6. 可按需求设计清洗盘,使用多种尺寸晶片
7. 高压水清洗、二流体混合清洗两种方案可选择分开使用或组合使用
8. 核心部件采用SMC、Siemens等品牌,稳定可靠
详细参数:
型号
HW2801
适用尺寸
MaxΦ8英寸
高压泵清洗压力
2.0—8.5Mpa
纯水压力
0.2—0.35Mpa
氮气压力
0.3—0.5Mpa
压缩空气
0.5—0.8Mpa
主轴转速范围
400—3000rpm
清洗和甩干时间范围
3—3000秒可设置
显示屏
7寸彩色触摸屏
外形尺寸(WXDXH)
1300x450x537mm
电源
AC220V—50Hz
网站地图

沈阳汉为科技有限公司 8年

  • 划片机,清洗机
  • 辽宁省沈阳市浑南新区浑南东路19号107室

———— 认证资质 ————

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