苏州晶淼1403半导体晶片清洗机
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更新时间：2017-05-02 11:04:49 信息编号：115292572

￥300000

≥ 2台

价格：
300000.00 元
品牌：
JM晶淼
用途：
工业用
关键词：
晶片清洗机,去除晶片表面杂质,去胶清洗

王先生

13771786452 0512-68639079

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详情介绍

苏州晶淼1403半导体晶片清洗机

产品别名	晶片清洗设备,晶片清洗机,晶片清洗台	面向地区	江苏苏州	品牌	JM晶淼
用途	工业用	槽数	非标	超声清洗频率	25khz
工作方式	交流	加工定制	是	适用领域	电子行业
类型	一体式

苏州晶淼晶片清洗机
适用于2"--8"基片的半导体清洗工艺中，有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元，各部分有立控制，随意组合。可根据用户要求配置氮气*、DI水*、恒温水浴、热台、超声清洗、DI水在线加热装置、DI水电导率测试仪等。
设备结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用，操作符合人机工程原理。可根据客户工艺定制。
用途:
炉前清洗-扩散前清洗。
光刻后清洗-除去光刻胶。
氧化前自动清洗-氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
抛光后自动清洗-除去切、磨、抛的沾污。
外延前清洗-除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。
合金前、表面钝化前清洗-除去铝布线后表面杂质及光胶残渣。
离子注入后的清洗-除去光刻胶SiO2层。
扩散预淀积后清洗-除去预淀积时的BSG和PSG。
CVD后清洗-除去CVD过程中的颗粒。
附件及工具的清洗-除去表面所有的沾污物。

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