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聚酰亚胺高分子研磨分散机,聚酰亚胺树脂高速研磨乳化机

更新时间:2023-03-24 05:46:02 信息编号:147567386
聚酰亚胺高分子研磨分散机,聚酰亚胺树脂高速研磨乳化机
238469≥ 1台
  • 238469.00 元

  • IKN

  • 超细磨机

  • 聚酰亚胺高分子研磨机,高分子研磨分散机,聚酰亚胺树脂乳化机,树脂高速研磨乳化机

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详情介绍

聚酰亚胺高分子研磨分散机,聚酰亚胺树脂高速研磨乳化机

产品别名
聚酰亚胺纤维研磨机,聚酰亚胺纤维分散机,双入口聚酰亚胺研磨,高剪切研磨分散机
面向地区
品牌
IKN
粉碎程度
超细磨机
是否可定制
适用物料
通用
新旧程度
全新
应用领域
化工
原理
高速粉碎机
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IKN研磨分散机设计特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。

聚酰亚胺是综合性能佳的有机高分子材料之一,耐高温达 400℃以上 ,长期使用温度范围-200~300℃,无明显熔点,高绝缘性能,103 赫下介电常数4.0,介电损耗仅0.004~0.007,属F至H

聚酰亚胺溶液是先x复合材料基体溶液品质之一,广泛用于复合材料制领域,主要用于(金刚石、立方氮化硼)砂轮和摩擦材料的结合剂及耐高温模压制件的基体溶液,具有优良的耐热性和机械性能,还适用于制备耐高(低)温固体自润滑机械零件。可用有机溶剂(DMF)溶解,制成一定固含量的溶液液,用于制备纤维(剥离纤维、碳纤维)增强预混料,在耐高温溶液基复合材料领域获得广泛应用。

产品特性:
高玻璃化温度及热稳定性能,优良的耐溶剂性能,低的热膨胀系数,高铜箔剥离强度,良好的贮存稳定性能。
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前国产设备转速的4-5倍。


CMD2000模块主要由两层分散头构成,工作时,物料通过投料口进入分散腔,到达层分散头进行处理,由于马达带动转子齿列高速运转,产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头,然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用,之后在转子齿列与定子齿列的强力剪切间隙中物料被强烈撕裂后从定子齿列缝隙中流出时完成第二次剪切,接着流出的物料进入第二层分散头腔体,对处理过的物料再次进行剪切(原理同上),从而确保混合分散获得很窄的粒径分布,获得更小的液滴和颗粒,生成的混合液稳定性更好,满足生产对于粒径的要求。


研磨分散机的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

CMD2000系列研磨分散机设备选型表

型号 流量
L/H 转速
rpm 线速度
m/s 功率
kw 入/出口连接
DN
CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15
CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32
CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65
CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65
CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
工艺应用:
食品纤维类物料的湿法超细破碎与均质 可溶物(或互溶物)固体和液体加速溶解
动物和植物组织的超细破碎及浆化加工 不相溶的固-液相悬浮物超细混合分散
不相溶的固-液相悬浮物超细混合分散 纳米材料团聚物的强力解聚与超细分散

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