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dinner真空在线等离子清洗机plasma清洗

更新时间:2019-03-15 14:23:02 信息编号:236977728
dinner真空在线等离子清洗机plasma清洗
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  • 1.00 元

  • 在线式

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详情介绍

dinner真空在线等离子清洗机plasma清洗

产品别名
半导体等离子清洗,led等离子清洗,陶瓷等离子清洗,玻璃等离子清洗
面向地区
类型
在线式
客户都想选择价格优惠,质量过硬的等离子清洗机,面对这么多的厂家,等离子清洗机哪个厂家好呢,作为等离子清洗机的生产厂家,给大家分析一下等离子清洗机的品牌.

等离子清洗机厂家有很多。进口和国产均有,作为使用客户,都需要能选择一款,价格优惠质量过硬的等离子清洗机,面对这么多的厂家,等离子清洗机哪个厂家好呢?作为等离子清洗机的生产厂家,给大家分析一下等离子清洗机的品牌,以及其它参数:

金属的等离子清洗:



有些处理产品被 脂肪、油、蜡、有机硅(存在 LABS - LABS =水 性油漆干扰物))和其他有机和无机污染物(包括氧化层)所覆盖。对于某些应用用途而言,表面清洁,并且不得存在任何氧化物,例如:

在溅镀之前

在涂层之前

在粘结之前

在打印之前

在PVD- 和 CVD-喷涂之前

对于某些特定医疗应用时

对于分析型传感器

在粘接之前

在对印刷电路板进行锡焊焊接之前

针对开关等元部件。

此处,等离子体以两种不同的方式发挥作用:

1.其除去了有机层

其会受到例如,氧气和空气的化学腐蚀。

通过真空负压和表面加热,脏污会部分蒸发。

通过等离子体中的高能量粒子,脏污会转化为稳定的小型分子,并借此被抽吸出来。

紫外线辐射也可以分解脏污,并另其从表面上剥落下来。

脏污的厚度只允许达到几微米,因为等离子的清除速度仅能够达到几 nm/s。

脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其有机成分。这一点同样适用于指纹。

2.还原氧化物

金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。将纯氢气或与氩气/氮气的混合物用作工艺气体。

也可以分两个阶段落实该项工艺。例如,处理产品与氧气发生 5 分钟的氧化反应;接着其与氩气-氢气混合气体(例如,90% 氩气和 10% 氢气的混合气体)发生 5 分钟的还原反应。

塑料的等离子清洗



对塑料进行等离子清洗的同时还伴随着对塑料进行活化处理。如果塑料的确只需要清洗而不需要进行活化处理,则只需要尽量降低工艺参数,直至达到所需的效果。同时,还考虑到,仅仅清洗工件对于后续工艺流程而言是否足够。工艺气体通常是工业氧气,但是环境空气往往已经足够。可反复进行等离子体处理,而且不会产生任何有毒废气。该原理和金属的等离子清洗是一致的。

玻璃和陶瓷的等离子清洗



清洗玻璃和陶瓷的方法和清洗金属是一样的。建议使用例如,氩气或者氧气作为清洗玻璃的工艺气体。一般而言,大多用氧气等离子体进行清洗。其他参数(压力、发生器功率、气体流量、处理时间)取决于待处理工件的灵敏度。

等离子方法性的清除了表面和弹性体本身的所有油漆湿润缺陷物质。可以对不同材质(例如 PVC-U、PVC-C、PP、PE、ABS 和 PVDF)的零部件和金属零部件进行清洗。清洗之后,按照零部件受污染程度,多可用等离子体进行一个小时的处理。为了确认已成功完成处理,而且不含有 LABS,会在完成等离子处理之后会按照大众汽车-测试规定 PV 3.10.7 进行一次 LABS 测试 ,测试时通过一种快速的方法检测有机硅残余物。

只需要一块干净的玻璃板、丙酮和市售喷漆即可,当然这些材料不得含有机硅成分。已证明其特别适用白色。测试时,将待测试的材料置于玻璃板上,并用丙酮进行冲洗。在丙酮蒸发之后,以十字交叉的方式用喷漆对玻璃板进行喷涂。涂料干燥之后,可以明确辨识表面是否还存在有机硅残余物。在这些位置附近,涂料不会湿润,而且会形成所谓的坑洼。

采用特殊工艺,等离子清洗还可用于处理有机硅材料。可确保表面不含有 LABS,甚至是对于硅橡胶。通过创新和环保意识的低压等离子体技术可以除去待涂层零部件表面的 LABS 物质,从而解决了这个关键问题。集成于生产链的等离子清洗流程具有以下优点:

降低了返工率

降低了废品率

避免出现投诉

提高材料生产安全性

达因特还以这些工艺提供表面处理服务。为此,我们提供了多台等离子设备以及经验丰富的资质员工。这样,我们便能够确保您的零部件和组件具有佳的表面质量。

等离子清洗机可应用于哪些方面?

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