食品级胶体磨如何更干净的清洗

食品级胶体磨如何更干净的清洗

食品级胶体磨，医药级胶体磨，间歇式操作胶体磨，批次式操作胶体磨IKN高速胶体磨在食品工业和化工工业上运用为广泛，是现代工业常用到的机械设备。无论在什么工业领域使用胶体磨都要规范清洁操作，保持胶体磨处于洁净的状态，这样不仅了制品的卫生，也可延长胶体磨设备的使用寿命。下面就来讲讲胶体磨的清洁。

胶体磨清洁方法：

1、研磨结束后，用饮用水或清洁剂冲洗，将物料的残余物和清洁剂拍吧尽后，停止机器运作，切断电源。

2、将胶体磨的进料斗，出料管，出料口，转齿，定齿等拆卸下料进行清洗。

3、用镊子或者毛刷清洁齿缝，凹槽，将里面的废料残渣用水冲洗干净。

4、用清洁剂清洁可拆卸部件的各个表面，注意缝隙污垢处的清洁。

5、用水冲洗干净后，用干清洁布擦拭1遍，再用75%乙醇液擦洗1遍，自然晾干。

6、将胶体磨不可拆卸的部位在线清洁。

   胶体磨清洁完毕后应达到：轴见光，沟见底，设备整洁干净，没有前批生产的遗留物，没有可见的油污。在清洁完毕后，应将可以拆卸的部分装在干净，密封的塑料袋里，将胶体磨设备的主体部分敞口处用干净的塑料袋罩住，防止再次污染，便于下次使用。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第#级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，##要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征#能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出X终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMXD2000系列的线速度很高，剪切间隙fei #小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、wu菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、nai磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

食品级胶体磨如何更干净的清洗

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