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普鲁卡因青霉素注射液高速胶体磨,普鲁卡因青霉素均质机,青霉素注射液高速胶体磨,青霉素注射液高速均质机是指将不溶固体颗粒分散到液体中在液体介质中的分散体系。在分散过程中,往往需要减小固体颗粒,这就是湿磨或高剪切分散。用IKN高剪切胶体磨输入大量能量,可实现我们的目的。
本品为普鲁卡因青霉素与青霉素钠(钾)加适宜的悬浮剂与缓冲剂制成的无菌粉末,其化学名为对氨基苯甲酰基2-(二乙氨基)乙酯(6R)-6-(2-苯基乙酰氨基)-青霉烷酸盐一水合物。
混悬型注射剂在剂型上有以下特殊要求:
严格控制药物颗粒的大小。供一般注射者,颗粒应小于15μm,15~20μm者不应超过10%;供静脉注射者,颗粒大小在2μm以下者占99%.否则会引起静脉栓塞。有较好的分散性,不能沉降太快。
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ikn胶体磨(锥体磨,粉碎机,研磨机)1、、节能
传统设备需8小时的分散加工过程,CM设备1小时左右完成,超细分散效果显著,能耗降低;
2、高速、
传统设备的搅拌转速每分钟几十转,带分散功能的转速每分钟1500转以内,只完成宏观分散加工,分散能力极为有限;
CM设备的转速每分钟10000~15000转之间,线速度产生的剪切力,瞬间分散浆料中的粉体。
IKN胶体磨(锥体磨,粉碎机,研磨机)与普通胶体磨的分析:
①转速:
普通设备:目前是不通过变频器来调节,若通过变频调节,他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM(这是由于设备的内部结构及精密程度决定的)。
IKN:可以通过变频调速,转速可达7890/13789RPM ,通过皮带加速 我们轴承可以承受14000RPM(转速,研磨的力度也是他们的4-5倍,这样研磨的细度更小)。
②三级结构:
虽然都是三级结构
普通设备:沟槽是直线,同级的沟槽深度一样。
IKN:沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅。
③磨头的结构
普通设备:斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大。
IKN: 沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿流道的体积从上往下,从大到小。
这样形成了本质的区别,我们可以物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在磨头到另外磨头形成研磨效果。
④大线速度(如磨头的相同直径):
普通设备:大约在10-15m/s
IKN:可达到23-40m/s
⑤模块头:
普通设备:只有一种模块头。
IKN:可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。
⑥密封形式
普通设备:单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
IKN:双机械密封,易于清洗,将泄漏降至低,可24小时不停运转
⑦工作腔体方式
普通设备:卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,清洗苦难。
IKN:立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏符合流体流动原理,易于清洗。
⑧产品效果
普通设备:粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。
IKN:间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。
上海IKN新技术,特创意,融化新理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。
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