磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨

CM2000磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨价格，

磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨,磺胺二甲嘧啶混悬液研磨分散机,磺胺二甲嘧啶混悬液研磨设备 本品为白色或类白色混悬液（静置后有微细颗粒沉淀，振摇则成均匀的混悬液），味酸甜。

磺胺二甲嘧啶混悬液 混悬剂的质量要求是：药物本身化学性质应稳定，有效期内药物含量符合要求；混悬微粒细微均匀，微粒大小应符合该剂型的要求；微粒沉降缓慢，口服混悬剂沉降体积比应不低于0.90，沉降后不结块，轻摇后应能迅速分散；混悬剂的粘度应适宜，倾倒时不沾瓶壁；外用混悬剂应易于涂布，不易流散；不得有发霉、酸败、变色、异臭、异物、产生气体或其他变质现象；标签上应注明“用前摇匀”。 

　　混悬剂一般为液体药剂，也包括一种干混悬剂。它是将难溶性药物与适宜辅料制成粉末状或颗粒状药剂，临用前加水振摇即可分散成混悬液。其主要是有利于解决混悬剂在保存过程中的稳定性问题，并可简化包装，便于贮藏和携带。 

磺胺二甲嘧啶混悬液 

混悬剂中药物微粒与分散介质之间存在着固液界面，微粒的分散度较大，使混悬微粒具有较高的表面自由能，故处于不稳定状态。尤其是疏水性药物的混悬剂，存在更大的稳定性问题。这里主要讨论混悬剂的物理稳定性问题，以及提高稳定性的措施。 

　　（一）混悬微粒的沉降 

　　混悬剂中的微粒由于受重力作用，静置后会自然沉降，其沉降速度服从Stokes定律： 

　　按Stokes定律要求，混悬剂中微粒浓度应在2%以下。但实际上常用的混悬剂浓度均在2%以上。此外，在沉降过程中微粒电荷的相互排斥作用，阻碍了微粒沉降，故实际沉降速度要比计算得出的速度小得多。由Stokes定律可见，混悬微粒沉降速度与微粒半径平方、微粒与分散介质密度差成正比，与分散介质的粘度成反比。混悬微粒沉降速度愈大，混悬剂的动力学稳定性就愈小。 

　　为了使微粒沉降速度减小，增加混悬剂的稳定性，可采用以下措施：①尽可能减小微粒半径，采用适当方法将药物粉碎得愈细愈好。这是有效的一种方法。

胶体磨广泛应用在国计民生的各个领域，由于需要适应各种不同工况条件的要求，所以胶体磨的品种繁多数量。我国的胶体磨制造业十分的庞大，胶体磨厂家数以千计，遍布了，目前我国已经成为胶体磨产量和市场需求量大的国家之一。但我国的胶体磨行业大多是中小企业，良莠不齐，年产值超亿元的还不到10家，即便与国内其他机械行业相比，无论在装备上还是技术水平上也存在了很大的差距，真正具有立研究开发产品能力的单位非常少，因而在大型核电、石化、油气长输管道线等重大工程项目中，配套的胶体磨主要还是依靠进口。

IKN高剪切胶体磨和国产胶体磨对比：①   转速：

国内设备：目前是不通过变频器来调节，若通过变频调节，他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM（这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。）

IKN：可以通过变频调速，转速可达7890/13789RPM ，通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小)②   三级结构：

虽然都是三级结构

国内设备：沟槽是直线，同级的沟槽深度一样。

IKN：沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅。③   磨头的结构

国内设备：斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大。

IKN： 沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

这样形成了本质的区别，我们可以物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在磨头到另外磨头形成研磨效果。

  
                 ④   线速度（如磨头的相同直径）：

国内设备：大约在10-15m/s

IKN：可达到23-40m/s⑤   模块头：

国内设备：只有一种模块头。

IKN：可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。⑥   密封形式

国内设备：单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

IKN：双机械密封，易于清洗，将泄漏降至***低，可24小时不停运转⑦   工作腔体方式

国内设备：卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，清洗苦难

IKN：立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏符合流体流动原理，易于清洗⑧   产品效果

国内设备：粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差。

IKN：间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工