纳米材料共混法研磨分散机，共混法研磨分散机

　纳米材料共混法研磨分散机，共混法研磨分散机，纳米材料分散机，是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。 

IKN研磨分散机是由胶体磨和分散机组合而成，适合大规模地分散石墨烯,中粘度介质分散，纳米材料研磨分散。将三级高剪切均质乳化机进行改装，三级变跟为，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。物料既可以有效分散，又可以防止团聚。这样的设计既具有胶体磨的研磨功能，可以将物料由粗磨细；研磨后的物料经过下端的分散头，又可以瞬间均匀分散，形成均一体系。

　　纳米材料共混法先制成各种形态的纳米粒子．然后通过各种方式与聚合物混合制备纳米复合材料的方法。它是制备纳米复合材料*的方法。由于此法工艺简单．应用广泛．可适用于大规模的工业化生产．所以有着极其广阔的应用前景。但应用此法制备的纳米复合材料需要解决一个关键性问题，那就是纳米粒子的分散问题。

　　纳米粒子由于表面能大，粒子易于团聚，因此易导致形成的分散体系不稳定，而且形成的刚聚体也柞易成为薄弱点。不但不能发挥纳米粒子的特性．反而会使复合材料的性能变差．所以能否解决纳米粒子的分散问题是应用该法成功制备纳米复合材料的关键。

　　根据制备纳米复合材料时聚合物的状态．共混法可分为溶液共混法、悬浮液或乳液共混法、熔融共混法二种。溶液共混法是把聚合物基体或单体溶于适当的溶剂中．然所加入纳米粒子，充分搅拌使纳米粒子在溶液中分散均匀，然后除上溶剂或使单体聚合而制备纳米复合材料的方法；悬浮液或乳液共混法与溶液共混法相似．只是用悬浮液或乳代替溶液；熔融共混法是将表面处理过的纳米材料与聚合物混合．经过刚化、分散等过程．使纳米材料以纳米水下分散于聚合物基体中．达到对聚合物改性目的的方法。该法的优点是与普通的聚合物共混改性法相似，易于实工业化生产。目前，应用熔融共混法改性聚合物的研究已相当广泛。

从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：

1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 分散头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

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　　研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

　　研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 

　　研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

　　级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

　　CMSD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%

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