关键词 |
单腔ECR等离子体源,ECR同轴等离子体源,等离子体源 |
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2.45 GHz 微波等离子体源是一种用于产生等离子体的设备，它利用 2.45 GHz（千兆赫）的微波频率来产生电离气体。这种技术在各种工业和科学应用中都有重要应用。
在 2.45 GHz 频率下产生的微波具有产生等离子体的特优势。在这个频率下，微波可以有效地与气体的电子共振，从而提高电离效率。此外，2.45 GHz 频率允许使用相对较小的腔体尺寸，这对于紧凑型等离子体源的设计非常有用。 微波等离子体源具有多种应用，包括：
电子器件制造：ECR等离子体源在半导体工业中，微波等离子体源可用于清洁晶圆、蚀刻硅片和沉积薄膜层。其结构小巧，可以多个等离子体源组成等离子墙，或者不同形状以使之便于不同情况的工程应用。
微波等离子体源的设计和操作可能很复杂，需要仔细控制微波功率、气体流量和压力等参数。此外，采取适当的安全预防措施，因为微波辐射和高电压可能存在危险。 总之，2.45GHz 微波等离子体源是一种强大的工具，在许多需要产生等离子体的应用中都有应用。它们提供了一种、灵活的方法来控制等离子体过程，从而实现各种工业和科学应用。
SAIREM微波等离子体源可以用于药材提纯的过程。微波加热可以提高药材的温度并加速化学反应，从而实现药材的快速提纯。SAIREM微波源具有稳定的性能和高功率输出，可确保药材提纯过程的性和可靠性。通过调节微波功率和加热时间，可以控制药材提纯的过程，使其达到理想的纯度要求。这使得SAIREM微波源在药材提纯领域具有广泛的应用前景。
等离子体源溅射是一种物理现象，指的是在等离子体能量密集区域中的离子和电子受到能量激发后从其表面飞出，造成溅射现象。这种现象常常在等离子体物理研究、薄膜沉积和半导体制备过程中出现。
等离子体源溅射通常是通过将能量注入等离子体中，激发其内部原子或分子，使其进入激发态。当这些原子或分子回到基态时，它们会释放出能量并将部分能量转移给周围的粒子，导致粒子从等离子体表面溅射出来。
等离子体源溅射在许多应用中都具有重要作用，例如在薄膜沉积过程中，通过控制等离子体源溅射可以调节薄膜的成分和结构，从而影响薄膜的性能。此外，等离子体源溅射也被应用于半导体制备过程中，用来清洁和改性半导体表面，以提高器件的性能和稳定性。
| 主营行业：微波传感器 |
| 公司主营：微波等离子体源,脉冲电流探头 |
| 企业类型：有限责任公司 |
| 注册资金：人民币50万 |
| 公司成立时间：2005-01-12 |
| 经营模式：贸易型 |
| 经营期限：2005-01-12 至 2025-01-11 |
| 经营范围：技术开发、转让;销售电子产品、机械设备、计算机软硬件及外设、文化体育用品、五金交电、通讯设备;技术进出口;代理进出口:货物进出口。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。) |
| 公司邮编：102300 |
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